中频脉冲磁控溅射ZnO:Al透明导电膜工艺参数对材料性能的影响

摘要：

本文研究了利用中频脉冲磁控溅射法和Zn:Al合金靶反应溅射制备ZnO:Al透明导电膜时,工作气压、靶电压、O<,2>/Ar、本底真空度等参数对材料性能的影响.通过XRD、Hall、分光光度计等方法,对制备薄膜的结构及光电特性进行分析,找到最佳的工艺参数:工作气压0.6Pa,靶电压265V,O<,2>/Ar随沉积速率改变,本底真空度尽量大.

关键词： 中频脉冲磁控溅射 工作气压 载流子浓度 透过率 电导率 透明导电膜

作者: 王雅欣 孟凡斌 薛俊明 周祯华 李养贤

作者单位: 河北工业大学材料学院信息功能材料研究所(天津) 南开大学光电子所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 225-228

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）