溅射MnBiAl薄膜的结构相变

摘要：

本文采用磁控溅射法制备MnBiAl薄膜,研究了其成分及沉积周期对MnBiAl结构的影响.研究结果表明在Al含量一定的情况下,只有当Mn:Bi原子比接近于1时,才能获得结构完整的NiAs型六角结构.在总厚度不变的前提下,单周期的样品在真空退火后具有比双周期样品更完整的NiAs型六角晶体结构取向性.我们发现在室温至400℃的升温过程中,溅射MnBi<,0.93>Al<,0.18>薄膜的晶格只发生了膨胀,而不存在从低温相至高温相的转变.

关键词： 磁控溅射法 MnBiAl薄膜 结构相变

作者: 刘何燕 孟凡斌 李养贤 王荫君

作者单位: 河北工业大学材料学院(天津);中科院物理所国家磁学重点实验室(北京) 河北工业大学材料学院(天津) 中科院物理所国家磁学重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 161-164

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）