钒的氧化物薄膜微观结构的研究

摘要：

采用直流磁控溅射,通过控制氧分压溅射得到取向性很好的V<,2>O<,5>薄膜,并经过退火得到VO<,2>薄膜.XRD的结果表明,在氧分压增大时V<,2>O<,5>薄膜沿c轴垂直方向取向,(001)面平行于衬底生长,并在退火后得到的VO<,2>薄膜中延续了(001)的取向.SEM照片中观察到细长呈针状的V<,2>O<,5>晶粒层层平铺于衬底,和退火后长大呈棒状的致密的VO<,2>薄膜.用傅立叶变换红外光谱分析薄膜的分子结构和薄膜的晶格转化过程.

关键词： 钒氧化物薄膜 直流磁控溅射法 微观结构

作者: 潘梦霄 曹兴忠 孙建忠 王宝义 马创新 周春兰 魏龙 李养贤

作者单位: 河北工业大学材料科学与工程学院(天津);中科院高能物理研究所核分析技术重点实验室(北京) 中科院高能物理研究所核分析技术重点实验室(北京);兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室(兰州) 河北工业大学材料科学与工程学院(天津) 中科院高能物理研究所核分析技术重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 245-248

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）