不同处理状态下(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>磁致伸缩薄膜的结构及其磁性能

摘要：

采用直流磁控溅射法使用合金靶制备了(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>薄膜.在400℃以下处理时薄膜均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了α-Fe相.镀态薄膜呈现出垂直磁各向异性,随着基板预变形的增加,薄膜的垂直磁各向异性逐渐消失,达到一定的预变形后,薄膜没有明显的易磁化方向,这种趋势经200℃处理仍保持.经400℃处理后,所有薄膜呈现出平面磁各向异性.

关键词： 薄膜 晶化 磁各向异性 直流磁控溅射法

作者: 姜训勇 袁志好 徐惠彬

作者单位: 天津理工学院材料科学与工程系(天津) 北京航空航天大学材料科学与工程学院(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 238-240

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）