TbFe磁性薄膜的磁力显微镜(MFM)成像研究
本文介绍了利用磁力显微镜(MFM)对TbFe磁性薄膜进行了不同抬举距离(60-780nm)的成像比较实验.在实验中,比较了低抬举距离(100nm以下)磁力像中样品——针尖的互相干扰.同时发现在高抬举距离磁力像中,随抬举距离增大,出现了与形貌对应的黑斑及与之相关的亮沿.亮沿随抬举距离的变化也改变着位置与强度.
磁性薄膜 磁力显微镜 成像
周宇 王志红 陈琨
电子科技大学微固学院纳米分析中心(成都)
国内会议
天津
中文
41-44
2004-05-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)