”FePt/AlN”<,n>多层膜的结构和磁学性能

摘要：

采用磁控溅射制备了FePt(50nm)和”FePt(2,3,5nm)/AlN(1nm)”<,n>膜,之后在550℃退火30min,研究了周期数(n)和AlN含量对”FePt/AlN”<,n>系列多层膜结构及磁学性能的影响.结果表明,多层膜的矫顽力在n=8时出现较大值;周期数的增大会引起晶粒的长大;AIN的加入不但可以抑制FePt粒子的长大,而且还能有效地降低了晶粒间交换耦合作用,并且AlN含量越大,晶粒间交换耦合作用的程度越弱.

关键词： 多层膜 磁控溅射 退火 磁学性能

作者: 李小丽 许小红

作者单位: 山西师范大学化学与材料科学学院(山西临汾)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 170-172

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）