会议专题

Cu扩散对超坡塻合金软磁性能的影响

用直流磁控溅射法制备了超坡莫合金NiFeSiMoMn(20nm~200nm)单层膜、NiFeSiMoMn(20nm)/Cu(50nm)双层膜,发现NiFeSiMoMn和NiFeSiMoMn/Cu中后者的软磁性能好于前者,我们认为Cu扩散对NiFeSiMoMn的软磁性能有一定的改善.这一结果对于研究巨磁阻抗(GMI)效应具有积极的意义.

Cu扩散 超坡塻合金 软磁性能

季勇 周丽萍 郑鹉 王艾玲 姜宏伟

首都师范大学物理系磁光薄膜实验室(北京)

国内会议

第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

天津

中文

233-234

2004-05-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)