Fe-N薄膜的结构和磁性研究

摘要：

用RF磁控浅射法制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.研究了氮气分压和纯Fe衬层对Fe-N薄膜结构和磁性的影响.结果表明:当氮气分压为2×10<”-4>Torr时,最有利于α″-Fe<,16>N<,2>相的形成.在此条件下制备的FeN薄膜的饱和磁化强度高达2.735T.

关键词： Fe-N薄膜 RF磁控溅射法 薄膜结构 磁性

作者: 陈逸飞 姜恩永 李志青 白海力

作者单位: 天津大学现代材料物理研究所(天津);天津市薄膜物理及低维功能材料设计重点实验室;天津大学(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 195-197

在线出版日期: 2004-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）