成膜参数对Au透明导电复合膜电性能的影响

摘要：

本文介绍了真空磁控溅射方法沉积Au-氧化物透明导电复合膜,研究了沉积复合膜过程中真空室温度、电压以及退火处理等因素对复合膜电性能的影响,研究表明复合膜的电阻呈正温度系数,电阻低值对应于适宜的电压,从而对改善复合膜的光学、电学性能以及物理机械性能提供了很好的思路.

关键词： 复合膜 成膜参数 磁控溅射 电学性能

作者: 纪建超 沈玫 颜悦

作者单位: 北京航空材料研究院(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004全国真空冶金与表面工程学术研讨会

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 147-149

在线出版日期: 2004-05-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）