场助热电子发射显示器介质层的研究

摘要：

本文介绍了一种场助热电子发射阴极中绝缘介质层的制作工艺,对五氧化二钽、三氧化二铝、二氧化铪等介质进行了电子束蒸发镀膜实验,并对其电学性能进行了分析比较,在此基础上复合了Ta<,2>O<,5>-Al<,2>O<,3>-HfO<,2>等几种介质结构,经过对复合结构的击穿场强、介电常数等电学性能的测试后确认获得了比较满意的结果.

关键词： 场助热电子发射显示器 绝缘介质层 制作工艺 电学性能 场致发射显示器

作者: 王红光 刘逸忠 肖田

作者单位: 上海广电电子股份公司平板显示技术研发中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004中国平板显示学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 185-187

在线出版日期: 2004-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）