考虑抛光垫特性的CMP流动性能

摘要：

通过假定孔质层流体服从Darcy规律,提出了用于化学机械抛光的三维流体模型.给出了流动方程并利用数值模拟方法探求不同孔径大小和孔质层厚度下承载能力和运行参数的关系.小孔径尺寸和较厚的孔质层有较大的承载能力,这将提高其材料去除率.

关键词： 化学机械抛光 多孔层 流动性能

作者: 张朝辉 雒建斌 温诗铸

作者单位: 清华大学摩擦学国家重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国机械工程学会年会

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 162-170

在线出版日期: 2003-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）