XPS研究溅射氩气压对玻璃基DyFeCo/AlN磁光记录薄膜成分的影响

摘要：

用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频磁控溅射法在玻璃基表面上制备的DyFeCo/AlN磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系。

关键词： 镝铁钴 磁光记录薄膜 表面成分 AIN保护层

作者: 赵青南 赵修建 熊锐 李佐宜

作者单位: 武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室 华中理工大学固电系(武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国稀土学会第四届学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 716～720

在线出版日期: 2000-11-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）