会议专题

Rh-CeO<,2>/γ-Al<,2>O<,3>催化剂上CH<,4>-CO<,2>积炭消炭性能的研究

本文针对CeO<,2>这种典型的n型型半导体,结合Rh-CeO<,2>/Al<,2>O<,3>催化剂上CH<,4>裂解积碳和CO<,2>消炭活性的研究,并将CH<,4>/CO<,2>活化机制与Rh/CeO<,2>间相互作用相关联,对Rh-CeO<,2>/Al<,2>O<,3>催化剂的抗积炭性能进行了解释.

Rh-CeO<,2>/γ-Al<,2>O<,3>催化剂 CH<,4>-CO<,2>积炭消炭性能 CH<,4>裂解积炭 CO<,2>消炭反应

王锐 徐恒泳 陈燕馨 江魁 李文钊

哈尔滨师范大学化学系(哈尔滨);中国科学院大连化学物理研究所(大连) 中国科学院大连化学物理研究所(大连)

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227-228

2003-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)