低气压等离子喷涂B<,4>c涂层工艺研究

摘要：

B<,4>C涂层提供了低Z（原子序数）和稳定的耐熔表面。在不锈钢和铜合金基片上直接采用低气压等离子喷涂法实现200～300μm厚的B<,4>C涂层，是一种经济快速且有效的第一壁制造工艺。通过对影响B<,4>C涂层质量的诸多工艺参数进行优化，在温度和气氛可控的条件下实现抗热冲击性能良好的B<,4>C涂层，该涂层活适于作为核聚变装置第一壁耐等离子冲刷的保护涂层。

关键词： 低气压 等离子喷涂 B<,4>C涂层

作者: 隋毅峰 陈俊凌 梁荣庆 何也熙

作者单位: 中国科学院等离子体物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国等离子体科学技术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 218-221

在线出版日期: 1999-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）