扫描电镜衬度像在集成电路分析中的应用

摘要：

本文简述了扫描电镜电压衬度的成像原理及其在集成电路分析中的应用,列举了几组在实际工作中应用扫描电镜得到的集成电路缺陷照片和电压衬度照片,对试验结果的应用进行了分析,并给出了二次电子像在集成电路分析中一些限制因素.

关键词： 扫描电镜 集成电路 电压衬度 成像原理 集成电路缺陷

作者: 李兴鸿 王勇 赵春荣

作者单位: 北京微电子技术研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003第十届全国可靠性物理学术讨论会

会议地点: 西宁

会议语种:中文

页码: 17-19

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）