磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征

摘要：

采用磁控溅射方法在p-Si(111)衬底上淀积5nm Pt膜,退火后形成PtSi薄膜,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征.实验结果表明,工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌.随着衬底温度增加,薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇,薄膜显微结构由多层变为单层.衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜.

关键词： 表面形貌 界面结构 磁控溅射方法 硅化铂 纳米薄膜

作者: 殷景华 蔡伟 王明光 郑玉峰 李美成 王培林 赵连城

作者单位: 哈尔滨理工大学应用科学学院(哈尔滨) 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨) 中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室(沈阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国纳米技术与应用学术会议

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 74-76

在线出版日期: 2003-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）