硅基法布里-珀罗微腔的红光发射
以PECVD为制备工艺,a-SiO<,2>:H/a-Si:H为分布式布拉格反射镜的多层膜,a-SiC<,x>:H为中间腔体发光材料,制备出垂直腔面的发光微腔.根据模拟结果确定了微腔的多层膜层数和排列顺序,并在250℃下制备出了这种微腔.将微腔样品分别在不同温度下进行退火,对退火前后的微腔进行了反射谱和光致发光谱研究.结果表明,微腔能激射出波长为743nm,半高宽为9nm的光,在350℃退火后发光性能进一步提高,而450℃退火后,性能恶化.
布拉格反射镜 退火温度 硅基法 红光发射 布里珀罗微腔 光致发光器件
但亚平 姚永昭 王燕 岳瑞峰 刘理天
清华大学微电子学研究所(北京)
国内会议
宁波
中文
60-63
2003-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）