偏振干涉型interleaver公差分析的优化设计
本文针对双折射晶体制备的C波段100GHz偏振干涉型interleaver,提出了公差分析的优化设计方法,并给出了仿真结果.在此种器件加工过程中,对晶体的长度以及方位角都要给定一个合理的公差范围.这对保证器件性能和降低加工成本具有重大意义.基于这个要求,我们采用了蒙特卡洛(Monte Carlo)方法编制了一整套计算机程序,去仿真在晶体加工过程中,尺寸公差对器件性能的影响.采用该程序,在保证器件性能的前提下,通过仿真可以找出最佳晶体长度和方位角的公差范围,实现器件最优化设计.仿真结果表明,当晶体长度和方位角公差为1.0μm和0.5度时可实现优化设计.
双折射晶体 蒙特卡洛方法 公差分析 优化设计 滤波器
彭芬 王陆唐 黄肇明
上海大学通信与信息工程学院
国内会议
宜昌
中文
322-329
2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）