退火对Zn<,1-x>Cd<,x>O薄膜结晶质量的影响
研究了退火对溅射沉积Zn<,1-x>Cd<,x>O薄膜(0≤x≤1.0)薄膜结晶质量的影响.结果发现:500℃下退火的薄膜具有最高的XRD衍射强度,但Cd组分含量较高(x≥0.6)的薄膜易发生CdO晶相的再蒸发现象.退火Zn<,1-x>Cd<,x>O(0≤x≤1.0)薄膜的晶胞参数比原位沉积时出现减小现象,尤其是Cd组分含量较高(x≥0.6)的薄膜受CdO组分再蒸发现象的影响,晶胞参数减小幅度较大,而薄膜带隙出现增大现象(CdO薄膜除外).另外,薄膜在500℃下的退火时间一般不易超过1h;退火气氛应选择O<,2>气氛.
退火 Zn<,1-x>Cd<,x>O薄膜 结晶质量 溅射沉积
马德伟 叶志镇 黄靖云 赵炳辉 朱丽萍
浙江大学硅材料国家重点实验室(杭州)
国内会议
深圳
中文
32-34
2003-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）