超薄硅化钴纳米结构研究

摘要：

在硅衬底上淀积了1nm的钴,通过热退火反应形成了超薄纳米硅化物薄膜,研究了超薄硅化物薄膜的结构、形貌和其与Si的肖特基势垒特性.结果表明,超薄硅化钴纳米结构的一些特性和其材料有明显不同.

关键词： 超薄硅化钴 纳米结构 肖特基势垒特性

作者: 屈新萍 段鹏 马志远 彭涛 李炳宗

作者单位: 复旦大学微电子学系(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 16-18

在线出版日期: 2003-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）