光刻胶的刻蚀技术研究

摘要：

光刻胶的刻蚀在细化光刻胶线条以及在对细线条的光刻胶进行修剪方面都有作用,本文采用等离子体刻蚀机对光刻胶的刻蚀技术进行了研究.在光刻机曝光出的0.5微米线条的基础上,获得了0.2微米的栅线条.

关键词： 光刻胶 等离子体 刻蚀技术

作者: 赵玉印 欧文

作者单位: 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 264-267

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）