电子束曝光技术的发展方向
电子束曝光技术是微电子、光电子和微机械研究和器件生 产的关键技术.电子束曝光是掩模制作的主要手段.电子束直写(EBDW)系统可达分辨率5nm,成为纳米器件、纳米结构研究的关键设备.EBDW还用于制作三维微结构、全息图形、表面诱导沉积和表面改性.当前对电子束曝光技术的研究主要聚焦在三个方面:高分辨率的直接光刻;高生产率的规模生产技术;下一代纳米级器件规模生产用电子束曝光技术.
电子束 分辨率 纳米器件 曝光技术
顾文琪
中国科学院电工研究所
国内会议
北京
中文
26-31
2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）