ICP刻蚀技术在微细加工中的应用

摘要：

电感耦合等离子体干法刻蚀技术(ICP)以其高密度高能量和刻蚀各向异性的特点越来越多的在微细加工领域被应用,微电子中心凭借在设备和工艺研发上的优势,在该领域进行了许多深入的研究和探索,并且用ICP干法刻蚀技术制备了EUV透射掩模、X射线光刻Ta掩模、红外焦平面成象阵列等,使该技术成为微纳米微细加工的主要手段之一.

关键词： ICP x射线光刻 EUV 红外成象阵列 RIE 刻蚀技术

作者: 李兵 刘辉 陈大鹏 谢常青 王玮冰 王冠亚 胥兴才 陈朝晖 叶甜春

作者单位: 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 251-254

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）