深硅槽的刻蚀研究

摘要：

在集成电路技术中,深硅槽主要用于双极集成电路中的隔离以及DRAM中的电容制作.由于双极集成电路中的工作电流大,深硅槽隔离技术对于双极集成电路来说是非常重要的,同时也能减少器件面积,而对于DRAM制作,深硅槽能制备出大电容,并占用较小的面积.在深沟隔离和深槽电容中,深硅槽的刻蚀技术是很关键的,本文对深硅槽的刻蚀进行了研究.

关键词： 深硅槽 集成电路 刻蚀技术

作者: 赵玉印 欧文

作者单位: 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 242-245

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）