离子束均匀性分析与改善

摘要：

在大尺寸光栅元件离子束刻蚀技术中,改善离子束流密度均匀性是研制离子束刻蚀系统的关键技术之一.通过简介6×66cm RF条形宽束离子源和测试其束流密度的空间分布,分析了影响离子束均匀性的主要因素,提出了改善离子束均匀性的措施.

关键词： 离子束刻蚀 束流密度 均匀性 RF条形宽束离子源

作者: 董晓浩 高飞 黄志刚 赵飞云 洪义麟 徐朝银

作者单位: 中国科技大学国家同步辐射实验室(安徽合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 223-226

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）