HDP系统中的等离子体刻蚀技术

摘要：

HDP刻蚀系统可以在低气压下提供高密度的等离子体,从而获得良好的刻蚀特征.本文详细介绍了在HDP刻蚀系统中离子和中性粒子的输送过程及其遵循的基本规律,并且介绍了经化学改性的表面层在刻蚀过程中所起的作用.

关键词： HDP系统 等离子体 刻蚀技术

作者: 王玉东 刘泽文 朱钧

作者单位: 清华大学微电子所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 199-202

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）