反应离子刻蚀机的控制系统

摘要：

本文主要阐述了反应离子蚀机的刻蚀机理,及真空系统中水汽等残余气体、工作压强、基片温度对刻蚀的影响,并着重讨论了基片温度的控制方法.

关键词： RIE 反应离子刻蚀机 刻蚀机理 温度控制

作者: 禹庆荣

作者单位: 中国电子科技集团公司第48研究所二部(长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 183-186

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）