用激光聚焦原子制作纳米结构的背景分析
用激光驻波场作为原子透镜阵列对原子束进行聚焦,由于热原子束的速度分布、发散角、衍射效应等的影响,原子透镜存在像差.原子透镜的像差和同位素原子是产生本底层、降低图形对比度的主要因素.针对各种因素产生图形背景的机理,提出优化实验参数、增加透射掩模和利用刻蚀工艺减少或消除图形背景、提高图形对比度的三种解决方案.
原子光刻 纳米结构 激光驻波场 掩模 刻蚀工艺 图形背景
陈献忠 姚汉民 陈旭南 石建平 陈元培
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(四川成都)
国内会议
北京
中文
162-165
2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）