SCALPEL掩模研制的技术难点

摘要：

电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL—Scattering with Angular Limitation Electron Projection Lithography)技术是下一代光刻技术的主要候选者,其中掩模研制是其关键技术之一;本文解决了该技术掩模制作中的几个技术难点.最后研制出了0.1微米线宽分辨率的3英寸掩模,摸索出一套比较稳定的工艺条件.

关键词： 电子束 掩模 分辨率 透过率

作者: 杨清华 叶甜春 陈大鹏 李兵 赵伶俐 胥兴才 刘明 陈宝钦

作者单位: 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 137-140

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）