电子束曝光SAL-601负性抗蚀剂技术研究

摘要：

电子束曝光SAL-601(ER7)负性抗蚀剂主要用于凸立的精细线条图形制作,徐秋霞、刘明”1”等人已经成功地制备了线宽小于70nm的孤立线条(Isolated Line).本文重点研究小于50nm的孤立线条和精细线条(Density Lines)密集阵列图形的制备.

关键词： 电子束曝光 负性抗蚀剂 图形制作

作者: 殷华湘 王云翔 刘明 徐秋霞

作者单位: 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 121-123

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）