可变矩形束电子曝光机电子束形态的精确修正

摘要：

本文重点介绍利用可变矩形束电子束曝光机精确制版中间掩模板或在硅片上直写图形时,如何通过校准子程序对电子束的形态及位置进行调整,使制版的精度要求得到保证.经过调整,使电子束扫描场的拼接精度和旋转精度获得明显提高,同时还可以对成型光阑的状况进行检测,并对成型光阑的旋转角度进行修正.

关键词： 可变矩形束 电子束曝光机 中间掩模版

作者: 张建宏 陆晶 陈宝钦 刘明 牛洁斌

作者单位: 中国科学院微电子中心微细加工及纳米技术研究室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 115-117

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）