透射电子显微镜改造为电子束曝光系统

摘要：

电子束曝光机是半导体工业中的一个重要设备,为了充分研究加速电压对于电子束曝光的影响,高压透射电子显微镜被改造成电子束曝光系统.改造后的系统将用于研究加速电压和光刻胶曝光特征之间的关系.由于高压透射电子显微镜的设计和曝光系统的结构有较大的差异,因此必须对前者进行较大的改造,如设计和加装图形发生器和精度工件台等,本文重点介绍仪器改造的方法.

关键词： 高压 电子束曝光 电子显微镜

作者: 韩立 田丰 安秉谦 顾文琪

作者单位: 中国科学院电工研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 112-114

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）