DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计
对于下一代曝光技术之一的电子束曝光技术,其性能很大程度上决定于电子光学系统,其中,偏转器的设计非常关键.针对基于JSM-35CF型扫描电镜的纳米级电子束曝光机,我们设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器.在设计中,我们用二阶有限元计算了八极静电偏转器的轴上场分布,结合具体电子光学系统对偏转器的激励强度、转角、及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差,结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求.
静电偏转器 二阶有限元 像差 电子束曝光机
刘珠明 顾文琪 李艳秋
中国科学院电工研究所
国内会议
北京
中文
67-71
2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）