光学光刻法制作反射式金属光栅工艺研究

摘要：

本文介绍了光学光刻法制作反射式金属光栅工艺试验过程,通过试验得出了制作反射式金属光栅可行的工艺方案,并制作出了亮条纹为金膜,暗条纹为三氧化二铬以及亮条纹为银膜,暗条纹为三氧化二铬两种型式的反射式金属光栅.

关键词： 光刻 金属光栅 工艺流程

作者: 周翠花 李代学

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(四川成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 379-382

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）