JBX-5000LS电子束混合光刻对准标记制作技术

摘要：

电子束直写是深亚微米加工技术的重要手段,但是由于电子散射、背散射现象的存在以及电子束高精度扫描成像曝光低效率的问题影响了电子束曝光技术的应用,实践证明电子束邻近效应校正技术和电子束与光学曝光系统的匹配和混合光刻技术相结合是一种非常有效的办法,本文将重点介绍电子束直写和混合光刻中如何保证高精度定位和套准的对准标记设计与制造技术问题.

关键词： 电子束光刻 混合光刻 对准标记

作者: 陈宝钦 刘明 任黎明 卜伟海 张国艳 陆晶 龙世兵 李泠 薛丽君 牛洁斌

作者单位: 中国科学院微电子中心微细加工及纳米技术研究室(北京) 北京大学微电子学系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 34-38

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）