高灵敏度光致抗蚀剂电子束刻蚀技术研究

摘要：

我国微电子进入新的飞速发展时期,新的生产线在不断兴建,集成电路设计公司已超过300多家.但大量的都是中小设计公司,对制版和流片的都要有较低的成本;另一方面就是环境保护方面对生产的要求,希望尽可能减少对环境的污染或是减少对污染的处理压力.基于这种情况我们提出将高灵敏度光致抗蚀剂用于电子束掩模制造.

关键词： 高灵敏度 光致抗蚀剂 电子束 刻蚀技术

作者: 彭力 陈惠萍 沈俊然 王新华 国芳 严剑荫 过建群 岳涛

作者单位: 无锡华润微电子有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 32-33

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）