光学光刻的极限

摘要：

本文讨论了光学光刻技术的各种分辨率增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,结合业界专家的展望,探讨了光学光刻技术的加工极限.

关键词： 光刻技术 分辨率 移相掩膜

作者: 童志义

作者单位: 中国电子科技集团公司第四十五研究所(甘肃平凉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 311-316

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）