影响光瞳滤波光刻图形质量的因素

摘要：

文章在简述光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了影响滤波成像光刻图形质量的因素,指出影响图形质量因素主要有滤波器的制作偏差、滤波器的放置和光刻工艺等.实验表明只有注意控制好这些因素,才能很好挖掘该技术提高光刻分辨力增大焦深波前工程技术的潜能.

关键词： 光瞳滤波 光刻图形 质量 光刻分辨力 光刻工艺

作者: 陈旭南 石建平 秦涛

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 308-310

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）