连续非球面微透镜阵列的制作研究

摘要：

实验研究了AZ9260正性光刻胶制作深浮雕连续非球面(双曲线)微透镜阵列的光刻工艺,给出了抗蚀剂厚度为17.75μm和35.49μm,石英刻蚀深度分别为35.05μm和72.36μm的最佳光刻工艺参数.提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘方法实现面型控制.并采用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓测试仪测试了所制微透镜的表面微结构形貌.

关键词： AZ9260光刻胶 深浮雕 连续非球面 微透镜阵列 面型控制 光刻工艺 工艺参数 表面微结构

作者: 张晓玉 姚汉民 杜春雷 潘丽 邱传凯

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 304-307

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）