ArF准分子激光光刻相移掩模技术

摘要：

对用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术作了阐述,对无铬相移掩模(CPM)、交替相移掩模(APSM)以及高透衰减相移掩模(HT AttPSM)和CPM组成的混合相移掩模技术进行了研究.对这些掩模的一些制作方法及一些关键技术问题进行了分析研究.

关键词： 光刻技术 掩模技术

作者: 冯伯儒 张锦 宗德蓉 蒋世磊 刘娟 陈宝钦 刘明

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(中国成都) 中国科学院微电子中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 295-299

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）