甲醇对poly-Si、SiO<,2>刻蚀的影响

摘要：

当在CF<,4>等离子体中掺入氧气时,由于增强了光刻胶的刻蚀作用,而使刻蚀的选择性和各向异性变差.为此,在本实验中用甲烷来代替氧气.研究发现poly-Si的刻蚀速率随着甲烷含量的增加而增大,在30％处出现最大值;SiO<,2>的刻蚀速率随甲烷含量的增加而缓慢下降.而poly-Si和SiO<,2>的刻蚀轮廓随着甲烷的掺入而保持完整.

关键词： 刻蚀 各向异性 多晶硅 电子回旋共振 甲醇

作者: 陈永生 汪建华

作者单位: 武汉化工学院,等离子体化学与新材料重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 400-403

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）