IC SEM剖面分析技术研究

摘要：

随着半导体工业的迅速发展,集成电路的生产已由大规模进入超大规模阶段,半导体工艺也发展到亚微米的水平.常规光学显微镜的放大倍数上限约为1200倍左右,在这样的放大倍数下,景深已非常小,于是扫描电子显微镜便得到日益广泛的应用.

关键词： 扫描电子显微镜 磨角 缀饰 样品制备技术 集成电路

作者: 王嵩宇 王丽华 袁凯 张国俊 林厚军

作者单位: 东北微电子研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 39-41

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）