等离子体离子注入(PIII)和在集成电路工艺中的应用

摘要：

该文介绍等离子体离子注入(PIII)以及PIII在浅结注入、SIMOX和Smartcut以及杂质吸杂工艺中的研究。

关键词： 等离子体 离子注入 集成电路

作者: 闵靖 邹子英 吴晓虹

作者单位: 上海市计量测试技术研究材料室(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 37～39

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）