SOI材料发展动态
SOI材料因其独特的结构以及一系列优良性能,已愈来愈引起人们的高度重视,近年来,这一技术发展迅速,并被认为是二十一世纪最重要的硅集成电路技术.本文简要地介绍了SOI材料的主要性能特点、应用前景,以及当前国内外SOI材料制备的几种主要方法.文章还指出Smart-cut SOI技术集SIMOX技术和BESOI技术的优点于一体,是当前较为理想的一种SOI制备技术.本文最后还提出了当前SOI材料需要进一步解决的一些技术问题.
SOI材料 SIMOX技术 BESOI技术
董尧德 袁强 徐慧芬
万向硅峰电子股份有限公司(开化)
国内会议
深圳
中文
82-84
2003-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）