直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的工艺优化

摘要：

研究了在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的方法中，工作气压、基片温度和甲烷浓度对金刚石薄膜生长速率和质量的影响，在优化工艺的条件下，以７￣１０μｍ／ｈ的速率制备出了白色（透明）自支撑金刚石厚膜。

关键词： 等离子喷涂 电弧喷涂 薄膜 金刚石膜 化学汽相沉积

作者: 钟国仿 申发振 黄天斌

作者单位: 科技大学材料科学与工程学院材料系表面技术室

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 640～643

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）