IPA在化学清洗中的应用

摘要：

该文介绍一种加入少量ＩＰＡ的新的清洗液，这种清洗液抑制颗粒污染硅片表面，且不改变表面的化学状态，是制备高性能的超薄栅氧化层所必需的清洗方法。

关键词： IPA 清洗液 硅片表面清洗

作者: 袁湘君

作者单位: 科学微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 283～285

在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）