红外焦平面阵列非均匀性的两点校正的理论依据

摘要：

以Planck辐射定律和红外探测元的线性响应模型为基础,在理论上完整地推导了红外焦平面阵列非均匀性的两点校正方法;据此,首次论证了两点校正方法的物理依据,即从理论上证明如果探测元是线性稳定响应的,则该方法可以实现非均匀性的准确校正;初步分析了非均匀性校正中存在的误差问题.

关键词： 红外焦平面阵列 非均匀性 线性校正 线性稳定响应

作者: 刘会通 易新建

作者单位: 华中科技大学光电子工程系(武汉) 华中科技大学图像识别与人工智能研究所(武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 81-84

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）