用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究

摘要：

平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.

关键词： 液相外延 衬底 平均位错密度(EPD) 碲镉汞材料

作者: 董瑞清 周立庆 刘兴新 王迎 桂春辉

作者单位: 华北光电技术研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 128-129

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）