类金刚石膜的沉积技术、性能和应用

摘要：

综述了类金刚石膜的需求背景,并结合物理气相沉积和化学气相沉积两方面介绍了国内外技术发展状况,文中主要侧重讨论射频等离子体放电化学气相沉积、离子束化学气相沉积和脉冲激光物理气相沉积三种方法.其中前两种方法在国外已经相当成熟,后一种方法也日趋完善,国内在第一种方法上使用非常广泛.同时描述了类金刚石的基本性能及与金刚石的对比,且从红外窗口和磁存储两方面叙述了类金刚石膜的应用.最后提出了作者对国内类金刚石膜发展的一些设想和展望.

关键词： 类金刚石膜 DLC 红外窗口 磁存储 化学气相沉积

作者: 洪伟 宋洪君 季一勤

作者单位: 航天科工集团三院八三五八研究所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 707-710

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）