ZnO在n-Si衬底上的生长

摘要：

本文采用RF磁控溅射法在Si衬底上制备了ZnO薄膜,用n型Si(001)做衬底,制备前用甲苯、丙酮、乙醇、去离子水对衬底进行超声清洗.用比例为c(H<,2>SO<,4>):c(H<,3>PO<,4>)=3:1的混合溶液加热到160℃,刻蚀10min,然后用去离子水冲洗并用高纯氮气吹干.

关键词： ZnO RF磁控溅射 XPS Si衬底 超声清洗

作者: 李万程 李正庭 张源涛 杨小天 王涛 杜国同

作者单位: 吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区(吉林长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国有色金属学会第八届全国MOCVD学术会议

会议地点: 牡丹江

会议语种:中文

页码: 73-73

在线出版日期: 2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）